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          光學涂層用鈦靶材

          材質(zhì):TA0、TA1(Grade1)、Ti-5N

          執(zhí)行標準: ASTM B299、GB/T 3620.1、SEMI F47

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          發(fā)布日期: 2025-02-15 16:34:06

          全國熱線: 0917-3376170

          詳細描述 / Detailed description

          1、定義

          光學涂層用鈦靶材是一種高純度鈦材料(通常純度≥99.9%),通過物理氣相沉積(PVD)或濺射技術(shù)制備光學薄膜(如增透膜、反射膜等),廣泛應(yīng)用于精密光學器件(鏡頭、濾光片、激光鏡等)。

          2、性能特點

          超高純度:避免雜質(zhì)導致光學散射或吸收。

          致密性:密度≥4.5 g/cm3,減少濺射過程中的顆粒飛濺。

          晶粒均勻性:晶粒尺寸≤50 μm,確保鍍膜厚度一致性。

          耐高溫性:熔點1668℃,適合高能濺射環(huán)境。

          低氣體含量:氧含量<500 ppm,氫含量<50 ppm,防止鍍膜氣泡。

          3、制造工藝

          原料處理:海綿鈦(純度99.95%)經(jīng)電子束熔煉(EBM)去除揮發(fā)性雜質(zhì)。

          熱機械加工:多道次熱軋(溫度800-1000℃)細化晶粒,后續(xù)退火消除應(yīng)力。

          精密加工:線切割/CNC加工至±0.1 mm公差,表面粗糙度Ra≤0.8 μm。

          清洗包裝:超凈室清洗(Class 100),真空密封防氧化。

          4、執(zhí)行標準

          標準類型具體標準關(guān)鍵指標
          國際標準ASTM B299(鈦及鈦合金鑄錠)純度≥99.9%, O<700 ppm
          中國標準GB/T 3620.1(鈦及鈦合金牌號)TA1級工業(yè)純鈦
          行業(yè)規(guī)范SEMI F47(半導體材料標準)雜質(zhì)總含量<0.1%

          5、應(yīng)用領(lǐng)域

          精密光學:相機鏡頭(如蔡司T*鍍膜)、激光諧振腔鏡(反射率>99.5%)。

          航空航天:衛(wèi)星光學傳感器抗輻射涂層(厚度誤差<5 nm)。

          醫(yī)療設(shè)備:內(nèi)窺鏡防反射膜(透光率提升至99.8%)。

          6、與其他鈦靶材的區(qū)別

          類型光學涂層靶材鍍膜鈦靶材半導體靶材平面顯示靶材
          純度要求≥99.99%≥99.9%≥99.999% (5N)≥99.95%
          關(guān)鍵指標低氧、低氫密度均勻性超低Al/Ca/Fe大尺寸(>2m)
          典型應(yīng)用激光鏡面工具硬質(zhì)涂層晶圓金屬化層OLED陽極層
          加工精度表面粗糙度Ra≤0.4 μmRa≤1.6 μm晶向控制(<2°偏差)平面度≤0.05mm/m

          7、選購方法

          參數(shù)驗證:要求供應(yīng)商提供GDMS(輝光放電質(zhì)譜)報告,確認Fe<50 ppm、C<100 ppm。

          結(jié)構(gòu)檢測:采用EBSD(電子背散射衍射)分析晶粒取向均勻性。

          供應(yīng)商審核:優(yōu)先選擇通過ISO 9001和IATF 16949認證的廠商。

          樣品測試:在相同濺射功率(如5 kW)下測試膜層透過率(需≥99.3% @550 nm)。

          8、注意事項

          儲存:恒溫恒濕(20±2℃, RH<40%),拆封后需在48小時內(nèi)使用。

          安裝:使用銦箔(厚度0.05mm)作為背板導熱層,確保靶材與陰極接觸電阻<0.1Ω。

          報廢標準:當靶面侵蝕深度超過總厚度30%時(如原始厚度10mm剩6.5mm以下),需更換以防鍍膜速率下降。

          安全:鈦粉塵具有燃爆風險(爆炸下限60g/m3),加工時需配備防爆除塵系統(tǒng)。

          光學級鈦靶材是高端鍍膜的核心材料,其性能直接影響光學系統(tǒng)的能量損耗(每0.1%雜質(zhì)增加約2%的散射損失)。在半導體和顯示領(lǐng)域靶材趨向大尺寸化(如G10.5代線需4m長靶)的背景下,光學靶材更聚焦于微觀結(jié)構(gòu)控制,需結(jié)合XRD(X射線衍射)進行擇優(yōu)取向分析,確保(002)晶面占比>70%,以實現(xiàn)最優(yōu)膜層生長。

          產(chǎn)品相冊 / Product album
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